HS2048高分辨光纤光谱仪

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HS2048 是一款结构小巧的微型光纤光谱仪,光谱范围可灵活配置,核心优势突出 —— 高分辨率达~0.07nm,杂散光低于 0.1%,波长温漂仅~0.1pixel/℃。适配激光测量、等离子体发射光谱测量、颜色测量、吸光度测量和拉曼测量等多个工业现场场景,是高性价比的工业级光纤光谱仪。


核心产品规格

关键配置

  • • 低杂散光设计:采用优质光学元器件、特殊消光工艺及优化光路,杂散光低至 0.1% 以下,提升光谱纯度与检测精度;
  • • 超高分辨率:搭载传统长焦 CT 光路,配合精密光学设计与高性能光栅,分辨率可达 0.07nm;
  • • 低温漂稳定:波长温漂~0.1pixel/℃,减少环境温度对检测结果的影响;
  • • 紫外响应优异:配备紫外高灵敏检测器,输出低噪声、高信噪比的准确光谱信号,适配高精度分析;
  • • 光纤适配性强:可搭配多芯密排集束光纤,光纤插拔强度一致性≤7%;
  • • 低噪表现:CCD 量化背景噪声≤30RMS(最短积分时间);
  • • 接口完备:配置 USB2.0、RS232 通讯接口及 24PIN 交互接口,内置专有 DAC 和 ADC,可实现配套光源的使能、强度控制及功率反馈;
  • • 采集模式多样:支持单次、连续、软件触发、同步外触发、异步复位外触发。

详细参数表

参数类别具体指标
产品型号HS2048
光纤接口Key-SMA905
像元通道数2048
杂散光<0.1%
波长温漂~0.1pixel/℃
光纤插拔一致性≤7%
AD 采样16 bit
数据接口USB2.0、RS232
扩展功能接口24PIN
采集模式单次、连续、软件触发、同步外触发、异步复位外触发
检测器积分时间60us-65s
外触发时延准确性10 ns
CCD 读出噪声(最小积分时间,均方根)≤30 RMS
CCD 动态范围(最小积分时间,(饱和值 - 暗噪基线)/CCD 读出噪声标准差)3000:1
信噪比380:1
响应线性度(校准前)≥98%
物理参数
重量260g
工作温度0℃~40℃
工作湿度20%-85%

产品配置表

规格型号起始波长(nm)截止波长(nm)光谱分辨率(nm)@不同狭缝宽度

10um25um50um100um200um
HS2048-200-8002008000.901.001.402.403.50
HS2048-350-9403509400.801.001.502.403.60
HS2048-200-110020011001.001.80-3.004.20
HS2048-350-105035010500.901.001.602.804.00

定制说明

  • • 光谱实际分辨率不高于标值的 120%;
  • • 光谱范围、分辨率等参数可根据客户实际应用场景定制。
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  • • 光谱实际分辨率不高于标值的 120%
  • • 光谱仪可根据客户需求定制光谱范围、分辨率等参数
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主要应用领域

光谱仪测激光器线宽

激光器线宽是描述激光器性能的重要参数,是指激光器输出的激光频率的宽度。线宽越窄,激光的单色性越好,频率稳定性越高。我们可以使用光谱仪来测量激光器的线宽,适用于激光器生产厂家、科研场所等。

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激光波长测量图谱

半导体刻蚀终点判断

光谱仪在半导体刻蚀工艺中用于终点判断,通过实时监测等离子体刻蚀过程中产生 的光谱信号变化,识别不同材料层的特征辐射峰。当光谱信号中的特征峰强度或位置发生预定变化时,系统判定刻蚀达到终点。这种方法具备高精度、实时性和非接触性。广泛应用于半导体制造中的多层结构刻蚀控制。

再结晶钨在气体为 He、0.1 Pa、700W、250V 条件下钨粒子的发射光谱

膜厚测量

基于光的干涉原理,当光照射到薄膜上时,部分光会在膜的上下界面发生反射和透射,形成干涉条纹。通过测量薄膜在不同波长下的反射或透射光谱,分析干涉条纹的频率和幅度变化,可以计算出薄膜的厚度。

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膜厚测量

火焰光谱检测

在紫外 - 可见 - 近红外内实现光强探测,可获取火焰在特定平面的相对光强和光谱分布。

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火焰光谱检测