优质基材
腔衰荡时间光谱仪或EUV镜的特殊激光应用的优质基材的特点是:
Ø精确的几何形状:有关直径,厚度,折痕或曲率半径等几何特性的公差,请参见我们目录的第12页
Ø表面粗糙度
Ø表面形状公差
Ø抛光表面上的缺陷数量
LAYERTEC针对所有这些参数优化了抛光程序。 在下文中,我们就会展示使用熔融二氧化硅和氟化钙可获得的出色结果。
规格
表面粗糙度
ØRMS-熔融石英和氟化钙的平面基板的粗糙度<1.5Å
Ø在光滑弯曲的球形熔融石英表面上得到相似的结果(取决于直径和曲率半径的比率)
Ø即使在紫外线范围内,基材的散射损耗也非常低:
ØTS = 2 x 10 – 5 at 248nm (total backscattering)
ØTS = 5.6 x 10 – 4 (total backscattering) and 7.5 x 10 – 4 (forward scattering) at 193 nm
Ø即使在DUV / VUV波长范围内也适用于低损耗光学元件

高质量抛光熔融石英基板的功率谱密度(PSD)曲线(在FhG IOF Jena上执行的测量)

高质量抛光CaF2基板(在FhG IOF Jena执行)的3D AFM测量,均方根粗糙度0.12nm
表面形状公差
Fused silica  | Plane  | λ/20 (633nm) for diameters of 6.35mm … 101.6 mm  | 
Spherical  | λ/10 (633nm) for diameters of 6.35mm … 38.1mm  | |
CaF2  | Plane  | λ/10 (633nm) for diameters of 12.7mm … 25.4 mm  | 
λ/4 (633nm) for diameters of 38.1mm … 50.8 mm  | ||
Spherical  | λ/4 (633nm) for diameters of 12.7mm ... 50.8mm  | 
表面质量
Material  | ISO 10110 (∅25mm)  | Approximately equivalent to MIL-O-13830  | 
Fused Silica  | 5/1x 0.010 L1x 0.0005  | Scratch - Dig 5 - 1  | 
CaF2  | 5/1x 0.016 L1x 0.0010  | Scratch - Dig 10 - 2  |